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IC以及4”硅片检查显微镜BX53M


BX53

BX53M
新一代UIS2光学系统,采用波前像差控制技术确保了世界最高等级的成像
A new standard of the objective lens performance, using wavefront aberration control.
The Olympus UIS2 objective lenses set a new standard, with wavefront aberration control in addition to common performance standards of N.A. and W.D. Olympus challenges farther highest order optics which has not been fulfilled by the conventional standards. We offer excellent performance objective lenses by minimizing the aberrations that lower resolution.


An example of 3D display of a wave front measured with a laser interferometer. The flatter the surface of the lens, the better the aberration correction becomes.
可以实现透反射/反射,明场法,暗场法,偏光法,微分干涉法,荧光法,红外法 高质量观察从1.25X,2.5X,5X,10X,20X,50X,100X各种系列的物镜可供选择

适用于从半导体,LCD,LED,到金相分析,材料分析的各种用途
可配用手动开关可切换的各种电动换镜转盘
100X100mm载物台板,确保能放置最大4英寸的晶片

BX53-IR
可对裸眼不可见的区域进行无损的检查和分析,以及近红外观察特化的显微镜. 能对半导体晶片内部和集成电路组件背面进行无损的CPS bumps观察

上海力阳(北京赛車pk10下载www.odgnro.cn)重点产品:奥林巴斯显微镜,奥林巴斯测量显微镜,奥林巴斯高倍显微镜,奥林巴斯工业显微镜

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